特許レーザー加工用ゴム印材およびその製造法 クレハエラストマー株式会社

【発行国】日本国特許庁(JP)
【公報種別】公開特許公報(A)
【公開番号】特開平10−16178
【公開日】平成10年(1998)1月20日
【発明の名称】レーザー加工用ゴム印材およびその製造法
【国際特許分類第6版】
B41C  3/04                 
B41K  1/02                 
1/50                 
C08L 21/00    LAY          
// B41N  1/12                 
C08K  5/24    KDJ          
【FI】
B41C  3/04                 
B41K  1/02        B        
1/50        B        
C08L 21/00    LAY          
B41N  1/12                 
C08K  5/24    KDJ          
【審査請求】未請求
【請求項の数】5
【出願形態】FD
【全頁数】6
【出願番号】特願平8−192987
【出願日】平成8年(1996)7月3日
【出願人】
【識別番号】591005006
【氏名又は名称】クレハエラストマー株式会社
【発明者】
【氏名】井上 修次
【発明者】
【氏名】川原田 正明
【代理人】
【弁理士】
【氏名又は名称】吉田 了司
【要約】
【課題】        発泡ゴムを用いることにより、従来のソリッドゴムに比べてレーザー加工の所要時間を大幅に短縮でき、かつべたつきがなく、シャープな輪郭のレリーフが容易に得られるゴム印材を提供する。
【解決手段】    発泡ゴムからなる本体層の表面に微発泡ゴムからなる平滑なスキン層を有するゴム印材を製造するに当たり、未加硫の本体層および未加硫のスキン層の積層体を一次加硫用金型に入れて125〜145℃の温度で5〜15分間プレス加硫し、次いで二次加硫用金型に移して145〜165℃の温度で5〜15分間二次加硫を行い、更にオーブンに移して温度50〜100℃で6〜12時間加熱する。
【特許請求の範囲】
【請求項1】  発泡ゴムからなる本体層の表面に微発泡ゴムからなる平滑なスキン層を有しており、このスキン層の厚さが0.3〜1.0mmで、その表面の硬さがSRIS(C)40〜65度であることを特徴とするレーザー加工用ゴム印材。
【請求項2】  スキン層が天然ゴム、無機充填剤、可塑剤、加硫剤、加硫促進剤、発泡剤、発泡助剤、加工助剤および老化防止剤等の配合物からなる微発泡層で形成され、上記無機充填剤および可塑剤の配合量がそれぞれ天然ゴム100重量部当たり100〜300重量部および10〜100重量部である請求項1記載のレーザー加工用ゴム印材。
【請求項3】  本体層が原料ゴム、無機充填剤、加硫剤、加硫促進剤、発泡剤、発泡助剤、可塑剤、加工助剤および老化防止剤等との配合物からなる発泡層で形成され、上記の無機充填剤が乾式シリカ、湿式シリカおよびケイ酸塩類のいずれか一以上を含み、その合計配合量が原料ゴムの100重量部当たり10〜200重量部配合である請求項1または2に記載のレーザー加工用ゴム印材。
【請求項4】  本体層の原料ゴムが天然ゴム、EPDM、SBR、BR、天然ゴム・SBRの混合物、天然ゴム・SBR・BRの混合物、EPDM・SBRの混合物またはEPDM・SBR・BRの混合物のいずれかである請求項3記載のレーザー加工用ゴム印材。
【請求項5】  発泡ゴムからなる本体層の表面に微発泡ゴムからなる平滑なスキン層を有するゴム印材を製造するに当たり、未加硫の本体層および未加硫のスキン層からなる積層体を一次加硫用金型に入れ、125〜145℃の温度で5〜15分間プレス加硫する一次処理と、一次処理後の積層体を二次加硫用金型に入れ、145〜165℃の温度で5〜15分間加硫する二次処理と、二次処理後の積層体を温度50〜100℃のオーブン中で6〜12時間加熱する三次処理とからなるレーザー加工用ゴム印材の製造法。