特許レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法 バンドー化学株式会社

【発行国】日本国特許庁(JP)
【公報種別】公開特許公報(A)
【公開番号】特開平11−42842
【公開日】平成11年(1999)2月16日
【発明の名称】レーザー彫刻用ゴム印材、これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法
【国際特許分類第6版】
B41K  1/50                 
B41C  1/05                 
B41K  1/02                 
【FI】
B41K  1/50        B        
B41C  1/05                 
B41K  1/02        B        
【審査請求】未請求
【請求項の数】4
【出願形態】OL
【全頁数】7
【出願番号】特願平9−203045
【出願日】平成9年(1997)7月29日
【出願人】
【識別番号】000005061
【氏名又は名称】バンドー化学株式会社
【発明者】
【氏名】塩山 務
【発明者】
【氏名】太田 保夫
【代理人】
【弁理士】
【氏名又は名称】角田 嘉宏 (外3名)
【要約】
【目的】  パターンのエッジのシャープ性に富むとともに、インクの浸透性に優れるレーザー彫刻用ゴム印材これを用いるゴム印及びゴム印の製造方法を提供すること。
【解決手段】  基材ゴムに炭酸カルシウムが配合されたゴム組成物を加硫して、ゴム印材を得る。このゴム組成物は、基材ゴム100グラムに対して配合される炭酸カルシウム量がBET総表面積で40平方メートル以上のものである。従って、このゴム印材の表面をレーザー光で彫刻して得られるゴム印は、パターンのエッジのシャープ性に優れるものである。ゴム組成物には、炭酸カルシウムの配合量に応じた無機塩類が配合され、連続気泡のボリュームが維持される。この結果、ゴム印のインク浸透性が維持される。
【特許請求の範囲】
【請求項1】  基材ゴムに炭酸カルシウムが配合されており、その基材ゴム100グラムに対して配合される炭酸カルシウムの量がBET総表面積で40平方メートル以上であるゴム組成物を用いた、レーザー彫刻用ゴム印材。
【請求項2】  基材ゴムに炭酸カルシウムと無機塩類とが配合されており、その炭酸カルシウムと無機塩類との配合量が下記数式(1)を具備するように調製されているゴム組成物を加硫した後、無機塩類が抽出されてなる請求項1に記載のレーザー彫刻用ゴム印材。
【数1】
(但し、数式(1)中のYは基材ゴム100グラムに対して配合される無機塩類の量であり、Xは基材ゴム100グラムに対して配合される炭酸カルシウムのBET総表面積である。)
【請求項3】  上記請求項1又は2に記載のゴム印材の印字面に、レーザー光照射にて彫刻されたパターンが形成されたゴム印。
【請求項4】  上記請求項1又は2に記載のゴム印材の印字面にレーザー光を照射してパターンを彫刻するゴム印の製造方法。
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