特許印材の彫刻印面の洗浄液及び洗浄方法 バンドー化学株式会社

【発行国】日本国特許庁(JP)
【公報種別】公開特許公報(A)
【公開番号】特開平7−276763
【公開日】平成7年(1995)10月24日
【発明の名称】印材の彫刻印面の洗浄液及び洗浄方法
【国際特許分類第6版】
B41K  1/00        C 6863−2C
B41C  1/04                 
【審査請求】未請求
【請求項の数】2
【出願形態】FD
【全頁数】4
【出願番号】特願平6−98092
【出願日】平成6年(1994)4月11日
【出願人】
【識別番号】000005061
【氏名又は名称】バンドー化学株式会社
【発明者】
【氏名】和田 博
【発明者】
【氏名】矢谷 靖信
【代理人】
【弁理士】
【氏名又は名称】清水 実
【要約】
【目的】  レーザー照射法や研削によって彫刻した際、炭化物や研削粉など印判表面の残留物を除去すると同時に直径が30〜100 μm の気孔の中に入り込んだ残留物によるインク色への影響を皆無とすることのできる彫刻印面の洗浄液及び洗浄方法を得ることを目的としする。
【構成】  ゴム又は合成樹脂の水分散体であるラテックス又はエマルジョンであって、水に分散させた微粒子の直径が 0.1〜5 μm であり、固形分含有率が 5〜20%である洗浄液に、レーザー照射又は研削等によって彫刻された印判を浸漬し、印判に振動又は伸縮動を加え印判表面及び気孔内の炭化物を洗浄除去した後、印判を乾燥することにより、なお残存する残留物を封止する構成からなる。
【特許請求の範囲】
【請求項1】  ゴム又は合成樹脂の水分散体であるラテックス又はエマルジョンであって、水に分散させた微粒子の直径が 0.1〜5 μm であり、固形分含有率が 5〜20%であることを特徴とするレーザー彫刻印面の洗浄液。
【請求項2】  ゴム又は合成樹脂の水分散体であるラテックス又はエマルジョンであって、水に分散させた微粒子の直径が 0.1〜5 μm であり、固形分含有率が 5〜20%である洗浄液に、レーザー照射又は研削等によって彫刻された印判を浸漬し、印判に振動又は伸縮動を加え印判表面及び気孔内の炭化物を洗浄除去した後、印判を乾燥することにより、なお残存する残留物を封止することを特徴とするレーザー彫刻印面の洗浄方法。
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