特許印材の製造方法および印鑑の製造方法 園田秀晴

【発行国】日本国特許庁(JP)
【公報種別】特許公報(B2)
【特許番号】特許第4646010号(P4646010)
【登録日】平成22年12月17日(2010.12.17)
【発行日】平成23年3月9日(2011.3.9)
【発明の名称】印材の製造方法および印鑑の製造方法
【国際特許分類】
B41K   1/00     (2006.01)
B41K   1/02     (2006.01)
【FI】
B41K   1/00       B
B41K   1/00       C
B41K   1/02       B
【請求項の数】3
【全頁数】7
【出願番号】特願2000−346226(P2000−346226)
【出願日】平成12年11月14日(2000.11.14)
【公開番号】特開2002−144685(P2002−144685A)
【公開日】平成14年5月22日(2002.5.22)
【審査請求日】平成19年9月20日(2007.9.20)
【特許権者】
【識別番号】500524855
【氏名又は名称】園田 秀晴
【代理人】
【識別番号】100090170
【弁理士】
【氏名又は名称】横沢 志郎
【発明者】
【氏名】園田 秀晴
【審査官】石井 裕美子
【参考文献】
【文献】実開平06−012058(JP U)
【文献】実開昭61−043068(JP U)
【文献】実開平04−047559(JP U)
【文献】特開2001−146063(JP A)
【調査した分野】(Int.Cl.
DB名)
B41K   1/00
【特許請求の範囲】
【請求項1】
芯材部分となるガラス材の周りに色付けを行った後、溶融したガラス材を被せ、次に、これらのガラス材を溶融した状態で棒状に延伸した後、該ガラス材を切断して印材を製造することを特徴とする印材の製造方法。
【請求項2】
請求項1に規定する印材の端面にマスクを被せ、このマスクを介してサンドブラスト処理を施すことにより、当該印材の端面に前記マスクのパターンに対応した凹凸を付すことを特徴とする印鑑の製造方法。
【請求項3】
請求項2において、前記マスクでは、印鑑の凹部を形成すべき部分が印鑑の凸部を形成すべき部分に比較して肉薄になっていることを特徴とする印鑑の製造方法。
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